การควบคุมฝุ่นสำหรับเซมิคอนดักเตอร์

การกำจัดฝุ่นอัลตราโซนิกบนพื้นผิวเวเฟอร์

ในขั้นตอนต่อมาของการบดและขัดแผ่นเวเฟอร์ สิ่งตกค้างอาจส่งผลต่อประสิทธิภาพและความน่าเชื่อถือของอุปกรณ์ เพื่อให้มั่นใจในความสะอาดและคุณภาพของเวเฟอร์ จำเป็นต้องมีเทคโนโลยีการทำความสะอาดอย่างรวดเร็วเพื่อกำจัดฝุ่นและสิ่งแปลกปลอมบนพื้นผิวของเวเฟอร์เพื่อให้แน่ใจว่าเป็นไปตามข้อกำหนดด้านคุณภาพผลิตภัณฑ์

โซลูชั่น

ด้วยการใช้เทคโนโลยีกำจัดฝุ่นอัลตราโซนิกแบบไม่สัมผัส อุปกรณ์ดังกล่าวประกอบด้วยหัวกำจัดฝุ่นอัลตราโซนิกที่มีความกว้างที่ปรับได้ และเครื่องกำจัดฝุ่นในตัวแบบดูดด้วยโบลเวอร์ การไหลของอากาศความเร็วสูงที่สร้างโดยหัวกำจัดฝุ่นอัลตราโซนิกสามารถกำจัดอนุภาคฝุ่นที่มีขนาดอนุภาคขนาดใหญ่ได้อย่างมีประสิทธิภาพ และในเวลาเดียวกัน คลื่นอัลตราโซนิกความถี่สูงและความเข้มสูงสามารถทำลายชั้นขอบเขตอากาศที่เกิดจากการไหลของอากาศบนพื้นผิวของวัสดุได้อย่างมีประสิทธิภาพ เพื่อให้อนุภาคฝุ่นที่มีขนาดอนุภาคเล็กกว่าถูกเป่าด้วยการไหลของอากาศความเร็วสูงแล้วดูดซับเข้าไปในห้องแรงดันลบ